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宇环YH2M8432C(15B)高精度立式双面研磨(抛光)机
产品报价:面议
更新时间:2020-08-26
产地:宇环数控机床股份有限公司
产商性质:生产商
品牌:宇环数控
公司名称:宇环数控New/Used
型号:YH2M8432C(15B)
基本参数
品牌:宇环数控
型号:YH2M8432C(15B)
详细说明

主要用途: 
该机床主要用于阀板、阀片、磨擦片、刚性密封圈、气缸活塞环、油泵叶片等金属零件的双面研磨和抛光;也可用于硅、锗、石英晶体、玻璃、陶瓷、蓝宝石、砷化镓、铌酸锂等非金属硬脆材料薄片零件的双面研磨和抛光。 

产品技术特点: 
1该机为三电机控制,上盘及太阳轮各由独立减速电机驱动,下盘及内齿圈同步驱动,控制灵活,工艺范围广; 
2内齿圈通过凸轮机构实现升降,操作方便,升降灵活可靠; 
3柱销型游星轮,耐磨损,使用寿命高; 
4双层推拉门式防护,维护方便,防护可靠; 
5柔性加载系统,精密电气比例阀控制,加压稳定可靠,压力均匀精度高; 
6上盘设有安全自锁装置,与程序互锁,确保操作安全性; 
7触摸屏人机操作界面,PLC控制,界面友好,信息量大; 
8可选配恒温冷却系统,满足精密抛光。

 

规格参数

项目

单位

YH2M8432C

上抛光盘尺寸(外径×内径×厚度)

mm

Φ1070mm×Φ495mm×45mm

下抛光盘尺寸(外径×内径×厚度)

mm

Φ1070mm×Φ495mm×45mm

最大加工压力

Kgf

300Kgf(抛光垫及毛刷抛光)

加工件最小厚度

mm

0.4mm(为直边工件)

加工件最大尺寸

mm

290mm(矩形件对角线290mm

被加工件精度

 

在来料平行度0.005以内时保证平行度0.005

上研磨盘转速

rpm

5-50/分(无级调速)

下研磨盘转速

rpm

Lower plate speed:5-45rpm

外形尺寸(:××)

 

1600mm×1440mm×2700mm2.3㎡)

外型尺寸(约:长××高)

mm

1600×1625×2150

整机重量

kg

3200Kg


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